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微波等离子去胶机WB240


  • 分类 : 台式微波等离子去胶机

  • >> 产品特点 
       WB240微波等离子去胶机采用高密度2.45GHZ微波等离子技术,用于半导体生产中晶圆的清洁、去胶和等离子体预处理,微波等离子体清洗、去胶机具有高度活性、高效,且不会对电子装置产生离子损害。   
    微波等离子去胶机主要用途: 
      ·等离子体表面改性
      ·有机物表面等离子去胶                                              
      ·邦定强度增强
      ·等离子体刻蚀应用
      ·等离子体灰化应用
      ·增强或减弱浸润性
      ·其它等离子体系统应用
    >> 技术参数
     ◆ 外形尺寸
        1000(W)×800(D)×1750(H)mm

     ◆ 仓体结构

        约20升    

     ◆ 等离子发生器(德国)
        频率2.45GHZ,功率0-1000W连续调节,可连续长时间工作
     ◆ 控制系统
        触摸电脑+PLC全自动控制,采用欧姆龙、西门子等电器元件,性能稳定可靠,并具有手动、自动两种模式
     ◆ 真空系统(真空压力PID闭环自动控制)
        英国爱德华斡旋式干泵 
        美国MKS真空压力控制节流阀及薄膜式传感器      
        台湾气动真空角阀、充气阀、不锈钢真空波纹管 
     ◆ 充气系统
        美国MKS高精度电子质量流量计(2路气体配制)
        美国世伟洛克气体管路及接口组件,德国双级减压阀

        日本SMC及CKD高真空气阀组件

    >> 相关应用    

      - 晶圆光刻胶清洗 

      - 去除残胶

      - 晶圆和衬底的清洁