电池硅片边缘刻蚀

GDR-PLASMA 微波等离子刻蚀机应用在太阳能电池硅片边缘隔离及背部表面氮化物或PSG(磷硅酸盐玻璃)去除,微波等离子系统具有RF射频刻蚀系统不可比拟的高刻蚀速率,另一方面直接微波等离子体技术使电池片温度保持在很低的水平从而避免产生热应力。
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